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CVD Abscheider

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CVD Abscheider "Siemens-Verfahren"

Genaue und schnelle Temperaturmessung auf Silizium verbunden mit Prozesssicherheit. Vereinfachung der mechanischen Integration des Messsystems durch Verwendung von robusten Lichtleitern.

 

 

Prozess

  

Aufgabenstellung

  

Lösung
         
CVD Abscheider "Siemens-Verfahren"  

Bestmögliche Stabilisierung des Wachstums-prozesses in der Vakuumkammer.

  

Explosionsgeschütztes Messsystem inklusive eines speziellen Pyrometers für die Messung von Silizium.
Alternativ Verwendung eines Messsystems mit Lichtwellenleiter aufgrund der besonderen Einbausituation in der Vakuumkammer.


Für leicht zugängliche Messobjekte:
M770 (Mikron)


Für schwer zugängliche Messobjekte:
Serie 50